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方力钧版画“对话”哥伦比亚大学
更新时间:2009年07月16日    来源:新京报

     为人熟知的方力钧油画“光头”系列即将以版画形式亮相。本月18日,以方力钧领衔的中国艺术家将在今日美术馆呈现当代中国版画的面目,以对话哥伦比亚大学带来的国际版画艺术。 

    在第一届中国当代版画学术展上,方力钧、邱志杰、苏新平、谭平等十多位中国艺术家带来他们的版画作品。记者了解到,在此次展览中将展出方力钧的十多张版画作品。在国际上,方力钧以油画作品出名,不过他却是版画系毕业,也一直没有停止版画创作。在此次版画展中,观众将看到版画中的光头系列。 

    主办方介绍,举办此次版画学术展,主要是为了呈现中国当代版画的现状。与此同时,展览还将引入国际版画艺术这个参照系。届时,哥伦比亚大学LeRoy Neiman版画中心的国际巡回大展“当代版画:1999-2009”也将开展。 

    据悉,此次展览将展至7月29日。(记者 李健亚)

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